设备 | 处理能力/容量 | 设备要求 |
搪瓷反应釜 | 4m³/批 | 耐酸碱、夹层加热(0~100°C)、可塔水/自来水 |
板框过滤 | 1.5m³hh(1%碳粉添加) | 不漏碳粉 |
陶瓷膜 | 1m³/h | 孔径50~100nm,压力2~4bar,温度<60°C |
储罐 | 5m³ | 可升温(20~60°C)、搅拌(0~20rpm) |
纳滤 | 1~2m³/h | 截留分子量1000~3000,压力10~20bar,温度20~ |
电渗析 | 1 m³/h | 电渗析膜对小分子产品(<150D)能有效拦截 |
离子交换柱 | 2~4m³/h | 流速:1~4BV/h,流速可控,2~4根。 |
双效/单效浓缩 | 1 m³/h | 内温<60°℃,防爆 |
球型蒸发器 | 0.3m³/h | 内温<60°C,防爆 |
结晶罐 | 1~婁縮蠟巴.5m3 | 可夹套控温5~25°C,机械密封,转速可调(0~6 |
刮刀卸料离心/平板离心 | 40kg/h | 洁净区、防爆、可喷淋乙醇、无缝合化纤滤袋 |
双锥干燥 | 1~2m³ | 洁净区、防爆、夹套水浴加热、温度可控(40~ |
30B型万能粉碎机 | 100~300kg/h | 筛网20~40目、洁净区、防爆、有粉尘处理 |